ASML 장비 기업 분석
오늘은 반도체 제조용 공정 장치를 생산하는 네덜란드 소재의 다국적 기업인 ASML에 대해 알아보겠습니다. ASML은 EUV 노광 장치를 독점하는 기업으로 널리 알려져 있습니다. 1984년 4월 1일 창립된 ASML은 유로넥스트와 나스닥에 상장되어 있으며 나스닥 100 지수와 AEX 지수에 편입되어 있습니다. 현재 본사는 네덜란드 벨트호벤에 위치해 있습니다. 필립스와 ASMI사의 합작으로 설립된 ASML은 세계 최대의 노광장비 제조사입니다. 반도체의 집적회로 선폭이 나노 단위로 접어들면서 물리적인 방법으로 반도체를 생산할 수 없기 때문에 빛에 반응하는 포토 레지스트 감광액을 미리 정해진 패턴에 따라 도포하게 됩니다. 이후에 특정 주파수의 빛을 쬐어주면 화학반응에 의해 감광액이 뿌려진 패턴대로 웨이퍼 위에 회로가 그려지는 방식을 이용하게 됩니다. 선폭이 미세해질수록 EUV 장비의 중요도가 높아졌으며 EUV 장비를 제작할 수 있는 업체는 전 세계에서 ASML 한 곳이기 때문에 다른 반도체 생산 업체의 투자 계획이 발표될 때마다 ASML의 주가가 오르는 경향이 있습니다. 연간 생산량이 50대 수준일 정도로 생산량이 매우 적고 대기 물량이 많아 기업의 영향력이 굉장히 높습니다. 2021년 기준으로 노광 장비 시장에서 점유율이 91%로 독보적인 업계 선두를 유지하고 있습니다.
ASML 기업 역사
1984년 네덜란드 기업 필립스와 ASMI가 합작해 설립한 ASML은 네덜란드 아인트호벤 필립스 본사 인근 목조건물에서 뿌리를 내렸습니다. 같은 해 PAS 2000 스테퍼는 1.2μm의 해상도와 250μm의 오버레이, 100mm 웨이퍼를 시간당 40대의 속도로 처리할 수 있는 성능을 갖추고 출시되었습니다. 1985년에는 벨드호벤으로 이전하여 본사가 현재에 이르고 있습니다. ASML은 1986년 PAS 2500 스테퍼의 개발 및 판매로 두각을 나타내며 반도체 포토리소그래피 장비 시장에서 큰 도약을 이루었습니다. ASML은 Philips와 협력하여 세계적으로 사업을 확장하여 1988년 대만에 공장을 설립하고 84명의 직원으로 5개의 미국 사무소를 개설했습니다. 이러한 확장 속에서 ASMI는 합작사에서 철수했고 필립스는 지분을 인수했습니다. 1989년 ASML은 PAS 5000을 도입하여 500μm 범위의 해상도와 100μm 오버레이로 성능을 자랑했습니다. 이 회사는 계속 혁신하여 1991년에 200mm 웨이퍼를 사용하여 대량 생산할 수 있도록 설계된 PAS 5500 스테퍼/스캐너를 출시했습니다. 오늘날은 더 이상 널리 보급되지 않았지만 이 장비는 그 시기에 상당한 발전을 이루었습니다. ASML은 1995년에 상장하여 필립스가 남은 지분의 대부분을 매각하면서 독립적인 회사가 되었습니다. 2001년에 ASML의 트윈스캔 기술은 웨이퍼 노출에 혁명을 일으켰고, 트윈스캔 XT:1900i는 특출난 사양으로 알려진 주력 모델이 되었습니다. 최근 몇 년 동안 ASML은 극자외선 리소그래피(EUV) 기술을 채택하여 ArF 침지 다중 패터닝의 한계를 극복했습니다. 독특한 트윈스캔 NXE를 생산하는 ASML은 7nm에서 이중 패터닝을 달성할 수 있는 리소그래피 시스템의 유일한 글로벌 공급업체로 남아 있습니다. EUV 기술에 대한 회사의 선구적인 노력은 더 짧은 파장 레이저 소스로 인해 발생하는 문제를 해결하며 주목을 받았습니다. 2012년 ASML은 고객이 의결권 없이 ASML 주식에 투자할 수 있도록 공동 투자 프로그램을 시작하여 EUV 기술 개발에 기여했습니다. 특히 ASML의 EUV 장비는 삼성, TSMC 등 유수의 반도체 제조업체들이 발주하여 2021년부터 인텔이 본격적인 도입을 계획하고 있습니다. 그러나 2022년 EUV 기술에 대한 수요 증가로 공급 부족에 직면했습니다. 마이크론과 SK하이닉스와 같은 선도적인 메모리 제조업체들도 EUV 장비 확보를 위한 노력을 강화하면서 6세대 D램, HBM, 300mm급 낸드 생산을 위한 첨단 리소그래피에 대한 관심이 높아지고 있습니다.
ASML 기업 제품
ASML은 다양한 공정 분야의 장비 제품을 개발 및 판매하고 있습니다. 2022년 기준으로 EUV 분야의 장비를 약 40대 판매하였으며 그로 인해 발생한 매출은 70억 4,530 EUR으로 집계되었습니다. ArFi 분야의 장비는 81대 판매되었으며 그로 인해 파생된 매출은 52억 3,650만 EUR로 집계되었습니다. ArF 분야의 장비는 총 28대 판매되었으며 그로 인해 파생된 매출은 6억 2,370만 EUR로 집계되었습니다. KrF 분야의 장비는 151대 판매되었으며 그로 인해 파생된 매출은 16억 5,370만 EUR로 집계되었습니다. I-Line 분야의 장비는 45대 판매되었으며 그로 인해 파생된 매출은 2억 1,150만 EUR로 집계되었습니다. 마지막으로 MI 분야의 장비는 총 216대 판매되었으며 그로 인해 파생된 매출은 6억 5,960만 EUR로 집계되었습니다. 또한 노광장비 시장에서 캐논과 니콘이 경쟁사로 분류가 됩니다. 니콘은 멀티플 패터닝 장비를 생산하는 경향이 있는데 선폭의 감소에 따라 최근 많은 고객사들이 EUV 장비로 갈아타는 추세입니다. 캐논의 경우, 2023년 NIL(나노 임플란트 리쏘그래피) 방식의 초미세공법을 상용화한 이력이 있습니다. 노광 장비 이외에도 반도체 장비 업체 중 경쟁사로는 AMAT, 도쿄 일렉트론, 램리서치, KLA 텐코 등이 있습니다.